분석

최대 빈 원(Largest Empty Circles, LEC) 이해하기 복잡한 지도에서 가장 큰 빈 공간을 찾아야 했던 적이 있으신가요? 새로운 시설의 최적 위치를 결정하든, 공간 패턴을 분석하든, 최대 빈 원(LEC) 분석은 이를 수행하는 데 도움을 주는 GIS 내의 강력한 도구입니다.

허프 모델링(Huff Modeling)이란 무엇인가요? 허프 모델링은 주로 상권 분석에서 특정 위치로 고객을 유치할 가능성을 계산하는 데 사용되는 기법입니다. 이 방법은 매장의 지리적 위치, 매장이나 서비스의 고유한 매력도,

농업 키트를 사용하여 토양을 확인하고, 관리 구역을 생성하고, 위성 작물 생육을 확인하고, 미국 작물 이력을 검토하세요.

부지 분석 키트를 사용하여 등고선, 경사, 사면 방향, 절토/성토, 토양, 배수 및 건축 가능 면적 보고서를 생성하세요.

마커 폴더를 기준으로 지도를 마커당 하나의 영역으로 나눕니다. 도로 네트워크의 이동 시간(네트워크, Pro 비즈니스) 또는 직선 거리(Linear)를 사용합니다.

마커를 마우스 오른쪽 버튼으로 클릭하고 이동 시간 표시를 선택하면, 최대 4개의 시간 또는 거리 이내에 도로로 도달할 수 있는 영역이 그려집니다.

참고: 도형의 경계선 위 지정된 거리에 마커를 표시하려면, 먼저 채우기 영역을 삭제하여 경계선을 선으로 변환하세요. 상단 도구 모음에서 Delete Tool을 선택합니다. 단축키: 또는 키보드의 "E" 버튼을 누르고 있을 수도 있습니다. Map View에서 채우기 영역을 클릭합니다. 참고: 만약

참고: 그룹에 다음 오버레이 중 하나가 포함되어 있으면 마커를 표시할 수 없습니다: Isometric shape. Image overlay. 오버레이 생성하기 두 개 이상의 오버레이를 생성합니다: 예를 들어, 두 개의 마커와 하나의 다각형. 오버레이를 생성하는 방법을 알아보려면 다음 링크를 방문하세요. Marker Tool—마커 생성하기 Label

참고: 그룹에 다음 오버레이 중 하나가 포함되어 있으면 마커를 표시할 수 없습니다: Isometric shape. Image overlay. 오버레이 생성하기 두 개 이상의 오버레이를 생성합니다: 예를 들어, 두 개의 마커와 하나의 다각형. 오버레이를 생성하는 방법을 알아보려면 다음 링크를 방문하세요: Marker Tool—마커 생성하기 Label

참고: 그룹에 다음 오버레이 중 하나가 포함되어 있으면 마커를 표시할 수 없습니다: Isometric shape, Image overlay. 오버레이 생성하기 두 개 이상의 오버레이를 생성합니다: 예를 들어, 두 개의 마커와 하나의 다각형. 오버레이를 생성하는 방법을 알아보려면 다음 링크를 방문하세요: Marker Tool—마커 생성하기 Label

도형 생성하기 두 개 이상의 도형을 생성합니다. 예를 들어, 사각형과 다각형이 있습니다. 도형을 생성하는 방법을 알아보려면 다음 링크를 방문하세요: Rectangle Tool—사각형 그리기 Circle Tool—원 그리기 Polygon Tool—다각형 그리기 폴더에 오버레이 추가하기 Layers Panel 상단에서 다음을 클릭합니다.